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超聲波清洗機的工藝流程

更新時間:2016-07-01  |  點擊率:4641

超聲波清洗機的工藝流程

 1、研磨后的清洗   

研磨是光學玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量(外觀和精度)的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的,以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。
研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種:   一種主要使用有機溶劑清洗劑,另一種主要使用半水基清洗劑。
 
(1)有機溶劑清洗采用的清洗流程如下:   有機溶劑清洗劑(超聲波)-水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-純水漂洗-IPA(異丙醇)脫水-IPA慢拉干燥。   有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS(消耗臭氧層物質(zhì))產(chǎn)品,目前處于強制淘汰階段;而長期使用三氯乙烯易導致職業(yè)病,而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定,容易水解呈酸性,因此會腐蝕鏡片及設(shè)備。對此,國內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑,可用于清洗光學玻璃;并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標,可有效滿足不同設(shè)備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中,鏡片表面有一層很難處理的漆片,要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑;部分企業(yè)的清洗設(shè)備的溶劑清洗槽冷凝管較少,自由程很短,要求使用揮發(fā)較慢的有機溶劑;另一部分企業(yè)則相反,要求使用揮發(fā)較快的有機溶劑等。   水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物,溶劑對其清洗能力很弱,所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的,故而對水基清洗劑提出了的要求。以前由于國內(nèi)的光學玻璃水基清洗劑品種較少,很多外資企業(yè)都選用進口的清洗劑。而目前國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學玻璃清洗劑,并成功地應用在國內(nèi)數(shù)家大型光學玻璃生產(chǎn)廠,清洗效果*可以取代進口產(chǎn)品,在腐蝕性(防腐性能)等指標上更是優(yōu)于進口產(chǎn)品。   對于IPA慢拉干燥,需要說明的一點是,某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印,這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān),另一方面與清洗設(shè)備有較大的關(guān)系,尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好,需要設(shè)備廠家及用戶注意此點。   
(2)半水基清洗采用的清洗流程如下:   半水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂洗-IPA脫水-IPA慢拉干燥   此種清洗工藝同溶劑清洗相比大的區(qū)別在于,其前兩個清洗單元:有機溶劑清洗只對瀝青或漆片具有良好的清洗效果,但卻無法清洗研磨粉等無機物;半水基清洗劑則不同,不但可以清洗瀝青等有機污染物,還對研磨粉等無機物有良好的清洗效果,從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢,氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在*個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大,并且對后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用,所以第二個單元須市水漂洗,并且好將其設(shè)為流水漂洗。   國內(nèi)應用此種工藝的企業(yè)不多,其中一個原因是半水基清洗劑多為進口,價格比較昂貴。   從水基清洗單元開始,半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。在此不再贅述。   

(3)兩種清洗方式的比較   溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法,其優(yōu)點是清洗速度快,效率比較高,溶劑本身可以不斷蒸餾再生,循環(huán)使用;但缺點也比較明顯,由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕,均為封閉車間,溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響,尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。   半水基清洗是近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝,它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點,可以做到無毒,氣味輕微,廢液可排入污水處理系統(tǒng);設(shè)備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑為突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果,極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力,延長了水基清洗劑的使用壽命,減少了水基清洗劑的用量,降低了運行成本。   它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢,并且必須要進行漂洗。   2、鍍膜前清洗   鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時,還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。   鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式,分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學藥劑類型如前所述。   3、鍍膜后清洗   一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗,其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀,以滿足無法一次加工成型的需求,或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求為嚴格。接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物,清洗難度不大,但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求,其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。   光學玻璃表面燒蝕及解決辦法   1、光學玻璃表面燒蝕問題及成因   當前,光學玻璃加工過程中棘手的問題是玻璃表面的燒蝕。燒蝕是怎樣發(fā)生的呢?光學玻璃的主要成分為硅酸鹽,其遇水或水蒸汽會發(fā)生水解作用,形成燒蝕。   反應方程式如下:   Na2SiO3+2H2O?2NaOH+H2SiO3 (1)   水解作用的實質(zhì)是水中的氫離子(H+)與玻璃表面堿金屬離子之間的交換。其交換過程如下:   H2O?H++OH- (2)   分解   Si-O-Si-Na Si-O-Si-H   O-Si-O + H+ → O-Si-O + Na+ (3)   Si-O-Si Si-O-Si   結(jié)果氫離子不斷減少,使水中OH-離子不斷增加,與此同時玻璃表面形成一層硅酸凝膠薄膜。OH-離子增加的結(jié)果是玻璃的液體環(huán)境堿性不斷增強,生成高濃堿性液體,與H2SiO3發(fā)生化學反應,方程式如下:   2OH-+ H2SiO3=2H2O + SiO32- (4)   這樣就加劇了方程式(1)向右進行,生成堿性物質(zhì)再次增加,如此循環(huán)導致燒蝕加重。同時由于硅膠質(zhì)層具有多孔龜裂結(jié)構(gòu),使OH-離子繼續(xù)向玻璃層侵蝕,特別是含硅少、化學穩(wěn)定性差的材質(zhì),硅酸凝膠膜層的致密性和牢固性較差,更加劇了OH-的侵蝕。   水解作用幾乎貫穿了光學玻璃的整個加工過程,無論是研磨、求芯等工序中或工序間,均會程度不一地發(fā)生。水解作用的表現(xiàn)形式,或者說加劇水解程度的外在條件有很多,比如堿性腐蝕、鹽類腐蝕、溫度腐蝕(包括清洗劑溫度、烘干溫度、室內(nèi)溫度)等。   現(xiàn)以研磨工序為例,說明堿性環(huán)境以及加工方法本身是如何加速水解作用的。通常,以CeO2(二氧化鈰)為主要成分的研磨粉是不會對鏡片構(gòu)成腐蝕的,但在進行研磨加工時,研磨液是由水加研磨粉配制而成,因此新配制的研磨液的初始pH值是由水和研磨粉的酸堿性共同決定的,一般呈堿性(pH>7)。如前所述,玻璃遇水會產(chǎn)生水解反應,如方程式(1),而生成的H2SiO3(硅酸)呈凝膠狀態(tài),附在玻璃表層起保護作用,阻止反應繼續(xù)進行,同時一部分H2SiO3(硅酸)分解,生成的SiO2(二氧化硅)附在玻璃表面也可以減緩水解反應,起到保護作用,化學反應方程式如下:   H2SiO3(硅酸)→2H2O+ SiO2(二氧化硅) (5)   隨著玻璃表面的研磨拋光,表層的SiO2(二氧化硅)和大部分的H2SiO3凝膠被去除,打破了方程式(1)、(5)的平衡,使方程式(1)、(5)的反應更深入地向右進行,生成更多的堿性物質(zhì),導致研磨液的pH值持續(xù)上升,其中的堿性液體與H2SiO3凝膠反應,如方程式(4),如此循環(huán)加速水解反應,導致玻璃表面燒蝕。   2、表現(xiàn)及清洗對策   表面燒蝕的玻璃在經(jīng)過清洗、漂洗、脫水和干燥處理以后,通常會有白色霧狀殘留,使用丙酮等擦拭溶劑可以去除,在強光照射下可見塊狀印痕,印痕因玻璃材質(zhì)不同呈不同顏色,一般為藍色或灰色。這是由于玻璃表面燒蝕后,相應位置的折射率發(fā)生變化所致。   由于光學玻璃的表面精度要求,有燒蝕狀況的玻璃會出現(xiàn)鍍膜不良,影響使用,故必須在鍍膜前予以妥當處理。通??刹捎眠^堿性清洗的方式解決燒蝕問題。   過堿性清洗,顧名思義,是采用經(jīng)特殊方法配置而成的強堿性清洗劑,將玻璃鏡片在一定溫度下,浸泡一定的時間(視鏡片材質(zhì)而定),使玻璃表面產(chǎn)生均勻腐蝕,生成一層極薄的硅酸鹽及硅酸等,同時通過控制時間和溫度,使此種腐蝕的深度極?。ㄒ话銥槭畮字翈资{米),不會影響鏡片表面精度。通過外力(超聲波)清洗,使玻璃表面因腐蝕而松動的表層脫落,達到去除因燒蝕產(chǎn)生的塊狀印痕的目的。   綜 述   目前多數(shù)光學玻璃生產(chǎn)廠家都會進行研磨后和鍍膜前兩次清洗,其中研磨后主要清洗瀝青(漆片)和研磨粉,鍍膜前主要清洗求芯油(磨邊油)、指印和灰塵。所采用的清洗工藝也可分為溶劑清洗和半水基清洗兩種,兩者大的區(qū)別在于前者對無機污染物的清洗*依賴水基清洗劑,后者所使用的半水基清洗劑對于無機污染物的清洗效果也較好;兩者的共同點是對于有機污染物都具有良好的清洗效果,并采用相同的脫水及干燥方式,同時對鏡片的安全性。   對于光學玻璃加工過程中不可避免的表面燒蝕問題,其成因是由于光學玻璃的主要成分——金屬氧化物水解反應導致的,通??刹捎眠^堿性清洗的方法,并通過外力(超聲波)的作用消除燒蝕印痕。   LCD清洗屬于精密清洗領(lǐng)域,對清洗的質(zhì)量、效率要求很高,以前,LCD工廠大多使用的是ODS清潔劑和超聲氣相清洗技術(shù),在上加速淘汰ODS清潔劑的壓力下,LCD廠正在積極選用替代ODS清潔劑(或稱非ODS清洗劑),替代清洗劑必須保證清洗的LCD質(zhì)量不低于原用ODS清洗劑的清洗標準,甚至更高。本文簡單介紹LCD替代ODS清洗技術(shù)和不用或少用清洗劑的物理清洗技術(shù),并對其未來的發(fā)展進行了簡單評說。   一、非ODS清洗技術(shù)   到目前為止,LCD行業(yè)已有15家企業(yè)參與了《中國清洗行業(yè)ODS整體淘汰計劃》,并獲得多邊基會贈款。其中已有10家企業(yè)的替代設(shè)備投入運行。但仍有少數(shù)LCD廠繼續(xù)使用CFC-113及TCA。部分已淘汰ODS清洗劑的企業(yè)也面臨進一步優(yōu)選工藝、設(shè)備及非ODS清洗劑,以便提高LCD清洗品質(zhì)及效益的問題。以下討論LCD行業(yè)非ODS清洗技術(shù)的現(xiàn)狀。   二、非ODS清洗劑及其工藝路線的選擇   適用于LCD行業(yè)的非ODS清洗劑有水基、半水基和溶劑型三種, 水基、半水基清洗劑適用于超聲水洗工藝路線,溶劑型清洗劑適用于氣相超聲清洗工藝路線。表1列舉了各種清洗技術(shù)的比較,表2列舉了部分溶劑型HCFC和 HFC等替代物的基本物化性能指標。   水基、半水基及溶劑型三種替代清洗劑中,水基清洗劑的清洗速度遠遠不及溶劑和半水基型清洗劑。其原因有二:一是水基清洗劑去除LCD殘留液晶以表面活性劑與液晶的乳化作用為主,乳化對超聲波的依賴性較大;二是水的表面張力比溶劑大,對狹縫的濕潤性能較差。而表面張力較低的半水基和溶劑型清洗劑與液晶是一種溶解作用。